中國日報6月30日電（記者 馬思）荷蘭政府于今日頒布了有關半導體設備出口管制的新條例。荷蘭光刻機巨頭阿斯麥公司（ASML）在給《中國日報》的聲明中表示，這些新的出口管制條例針對對象為先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統，并非部分媒體報道的所有浸潤式DUV光刻系統。

根據新出口管制條例規定，ASML需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發運最先進的浸潤式DUV系統（即TWINSCAN NXT：2000i及后續推出的浸潤式光刻系統）。荷蘭政府將決定是否授予或拒發出口許可證，并將向ASML提供許可證所附條件的細節。

ASML表示其EUV光刻系統在此前已經受到限制。ASML其他系統的發運未受荷蘭政府管控。

ASML將繼續遵守適用的出口管制條例，其中包括荷蘭、歐盟及美國的出口管制條例。

荷蘭政府新頒布的出口管制條例將于2023年9月1日生效，在此日期前，ASML可開始提交出口許可證申請。荷蘭政府將視具體情況批準或拒絕這些申請。

ASML表示基于今日的公告，該公司認為這些管制條例不會對已發布的 2023 年財務展望以及于2022年 11 月投資者日宣布的長期展望產生重大影響。

需要重點指出的是，荷蘭政府新頒布的出口管制條例只涉及TWINSCAN NXT：2000i及后續推出的浸潤式光刻系統。 此外，ASML長期展望的基礎是全球的長期需求和技術趨勢。